Mass Applied Sciences (MAS) 公司推出的AREPA型原液zeta電位分析儀是一款創(chuàng)新的產(chǎn)品，專門用于測量和控制各種液體懸浮液中的顆粒大小分布及Zeta電位。這項技術(shù)特別適用于需要精確控制顆粒特性的工業(yè)領(lǐng)域，如半導體制造中的化學機械拋光(CMP)泥漿、油墨、涂料、顏料、陶瓷材料、催化劑、乳液(包括石油制品)、藥物制劑以及食品和生物膠體等行業(yè)。

　　主要特點

　　非侵入式測量 AREPA型分析儀采用先進的聲波傳感技術(shù)，能夠直接在生產(chǎn)線上對未經(jīng)稀釋的樣品進行實時監(jiān)測，無需取出樣品或添加任何試劑，從而避免了傳統(tǒng)方法中可能引入的誤差。

　　無需移動部件 該設備設計時充分考慮到了工業(yè)應用中的耐用性需求，采用了無活動部件的設計理念，這意味著它可以全天候不間斷工作，減少了因機械故障導致的停機時間和維修成本。

　　廣泛的適用性 AREPA型分析儀適用于多種工業(yè)環(huán)境下的在線粒度測量，如化工、石油加工、醫(yī)藥生產(chǎn)等。無論是在半導體CMP工藝中的泥漿調(diào)配，還是在食品加工中的質(zhì)量控制，都能發(fā)揮重要作用。

　　經(jīng)濟高效 通過實時監(jiān)測和調(diào)整生產(chǎn)工藝參數(shù)，該設備可以幫助企業(yè)優(yōu)化生產(chǎn)流程，提高成品質(zhì)量和一致性，降低原材料浪費，從而實現(xiàn)更高的經(jīng)濟效益。

　　工作原理

　　AREPA型分析儀的核心技術(shù)在于其聲衰減光譜測量法。不同于傳統(tǒng)基于光學散射的方法，此設備利用聲波與液體中粒子相互作用產(chǎn)生的衰減效應來推斷粒子大小及其分布情況。具體而言，通過發(fā)射聲波穿過待測樣品，并接收反射回來的信號，分析反射信號的變化規(guī)律，即可得到關(guān)于顆粒尺寸的信息。

　　此外，該設備還能進一步測量顆粒表面的Zeta電位，這是衡量顆粒分散穩(wěn)定性的重要指標之一。Zeta電位的高低反映了顆粒間靜電斥力的強弱，對于確保分散體系的長期穩(wěn)定至關(guān)重要。

　　實際應用案例

　　目前，AREPA型分析儀已被廣泛應用于基礎(chǔ)研究和工業(yè)生產(chǎn)之中。無論是學術(shù)機構(gòu)還是工業(yè)企業(yè)，都能從中受益。例如，在半導體制造業(yè)中，精確控制CMP泥漿的顆粒特性對于保證晶圓表面的平整度至關(guān)重要;而在制藥行業(yè)，則可用于監(jiān)測藥物顆粒的大小，確保其符合制劑要求。

　　綜上所述，AREPA型原液zeta電位分析儀憑借其技術(shù)優(yōu)勢，在眾多行業(yè)中展現(xiàn)了廣闊的應用前景。隨著技術(shù)的不斷發(fā)展和完善，預計未來還將有更多創(chuàng)新功能被集成進來，以滿足日益復雜的工業(yè)需求。